光刻技術加工

光刻過程的典型步驟是勻膠，蓋上掩模板，光刻，顯影，製備微米級或納米級的圖形。 光掩模 目前光刻圖形化使用的掩模版常爲均膠鉻板，即在高潔淨度、平整度的玻璃(蘇打玻璃或石英玻璃)上鍍鉻金術，覆蓋一層防反射物質(Anti-Reflective，AR)，最後塗一層感光膠製備而成。 光刻膠(光阻) 光刻膠也叫光阻聚合物，像膠水一樣粘稠。和相機的底片感光一樣，在受到照射後會發生變化，非化學放大型光刻膠分爲正膠

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