有關模糊控制

最近有一個任務是寫一篇關於離子源控制的專利，領導希望我從整體的離子源寫。然後閱讀了一下《ECR離子源主要參數對離子束流影響的研究》這篇論文，大概對影響離子源的兩個參數有所理解，一個是微波功率，一個是腔體的真空度，當然其他的影響因素還是有的，但是這兩個起主要作用吧。 然後我想把整個系統看做一個黑箱，因爲離子源點火以及束流穩定的影響因素很多，所以用模糊控制不用建立系統的數學模型，還是很方便的。 首先，

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