國產 14nm 迎曙光，進口荷蘭光刻機順利入廠！
做者 | 馬超程序員 責編 | 胡巍巍面試 出品 | CSDN（ID：CSDNnews）數據庫 據羊城晚報報道，近日中芯國際從荷蘭進口的一臺大型光刻機，順利經過深圳出口加工區場站兩道閘口進入廠區，中芯國際發表公告稱該光刻機並不是此前盛傳的EUV光刻機，主要用於企業復工復產後的生產線擴容。 c# EUV主要用於7nm及如下製程的芯片製造，光刻機做爲集成電路製造中最關鍵的設備，對芯片製做工藝有着決定性
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