精密光學測量4-光柵曝光

利用埃洛鏡實現光的干涉 干涉現象是波動性的體現， 平行光出射的光一部分入射到屏上，一部分通過反射鏡反射後入射到屏幕上，由於光是相干光，所以會發生干涉。產生的干涉條紋間距在光柵上主要表現爲光柵常數。條紋間距g = λ/sinθ，通過調節光的角度，可以控制曝光出來的光柵常數。 曝光 將光柵基片固定到埃洛鏡上面，讓平行光照射到裝有基片的埃洛鏡上，控制曝光時間，大約經過30-100秒左右後，關閉激光。光刻

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