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半導體材料複習
時間 2021-01-12
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半導體材料複習 半導體的主要特性 第一章 硅和鍺的化學制備 高純硅的製備 粗硅的製備 高純多晶硅的化學制備 半導體的主要特性 電阻率:10-3~109 Ω \Omega Ω·cm 負溫度係數:T升高,電阻率減小 具有高熱電勢 整流效應 光敏特性 摻雜可以提高導電能力 第一章 硅和鍺的化學制備 高純硅的製備 先由硅石(二氧化硅)製得工業硅(粗硅——純度低、雜質多),再製成高純多晶硅,經拉制得到單晶硅
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