氧化計算、摻雜計算

2-4、薄膜製作工藝有哪幾種？每種薄膜工藝的特點及適應範圍？ 蒸發 特點： 在真空室中把金屬加熱到高溫（一般高於1000°C），形成金屬蒸汽，在基片表面澱積形成金屬薄膜 適應範圍： 電阻加熱蒸發鍍膜：適合鋁,金,鉻等易熔金屬 電子束蒸發鍍膜：適合於難熔金屬，局部溫度可達3000°C，污染小，應用廣。 濺射（sputtering） 特點: 在低真空的濺射室內，通入稀有氣體，如：惰性氣體Ar。稀有氣體

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