中國造出首臺自主新式光刻機 將來可造10nm芯片

北京時間11月29日，中科院光電技術研究所宣佈國家重大科研裝備研製項目「超分辨光刻裝備研製」經過驗收，成爲全球首臺用紫外光源實現的22納米分辨率的光刻機。網絡 中國科研機構研製新型光刻機（圖自網絡，侵刪）工具 據中國《科技日報》報道，中科院光電技術研究所項目副總師胡鬆透露，新驗收的光刻機，使用了365納米紫外光的汞燈，一隻費用僅爲數萬元，而光刻機整機價格在百萬元至千萬元級。ui 項目副總設計師胡鬆

>>阅读原文<<