提高光刻精度的方法

摘要 在過去的二十年，伴隨着微電子技術的發展，以Intel、Nvidia、三星電子和比特大陸爲代表的芯片巨頭風光無兩。芯片性能的突飛猛進離不開光刻精度一次又一次地突破技術極限。藉助於光學近似修正、亞分辨率輔助特徵增強和移相掩膜技術，光刻線寬邁入亞微米領域。離軸照明和先進光刻工藝的組合使得光刻精度接近瑞利衍射極限。同時，通過技巧把低分辨率設備進行改進遠遠比直接安裝高分辨率設備要省錢和迅速。對光刻過程

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