功耗的挑戰

在傳統的概念中，芯片工藝的改進將會帶來性能的提高，成本的降低。同時，由於芯片內核電壓的降低，其所消耗的功耗也隨之降低，這一點到0.13um時代也是正確的。 但是在工藝進入90nm時代，甚至於以後的40nm或更小的工藝，出現了一點反常，芯片功耗將顯著提高。 由於40nm工藝的內核電壓進一步降低，電壓降低的一個負面影響是晶體管中的溝道(channel)內的電場減弱，於是電子移動速度降低，實際上也就是晶

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