創建zemax非序列光學系統

zemax中有兩種截然不同的光線追跡模式:序列和非序列。 兩者的主要區別: 1)序列模式,主要用來設計成像和離焦系統。在Lens Data Editor中定義。光線只能和每個面相交一次,而且要遵循一定的序列次序,面#0,然後是#1、#2…,這也就是名字序列光線追跡的由來。   光線只在表面材料是反射鏡的面上發生反射。在折射面發生部分反射,也只會在要計算折射能量(考慮介質和金屬鏡面效應)的時候涉及到
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