芯片設計公司，來申請版圖專利吧

版圖專利的優勢 高新企業申請時，企業所持有的專利是最爲重要的考慮因素。 目前國家對於知識產權的分類分爲兩種，Ⅰ類和Ⅱ類。 Ⅰ類包括髮明專利（含國防專利）、植物新品種、國家級農作物品種、國家新葯、國家一級中藥保護品種、集成電路布圖設計專有權； Ⅱ類包括實用新型專利、外觀設計專利(非簡單改變產品圖案和形狀的外觀設計)、軟件著作權（按Ⅱ類評價的知識產權在申請高新技術企業時，僅限使用一次。） 對於芯片設計

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