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芯片設計公司,來申請版圖專利吧
時間 2021-07-13
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版圖專利的優勢 高新企業申請時,企業所持有的專利是最爲重要的考慮因素。 目前國家對於知識產權的分類分爲兩種,Ⅰ類和Ⅱ類。 Ⅰ類包括髮明專利(含國防專利)、植物新品種、國家級農作物品種、國家新葯、國家一級中藥保護品種、集成電路布圖設計專有權; Ⅱ類包括實用新型專利、外觀設計專利(非簡單改變產品圖案和形狀的外觀設計)、軟件著作權(按Ⅱ類評價的知識產權在申請高新技術企業時,僅限使用一次。) 對於芯片設計
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